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產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
FPAR-1000AS
OTSUKA大冢- 自動桑普勒濃厚系顆粒直徑
FPAR和自動取景器的組合中，關(guān)于50檢體的試料，可以進行粒子直徑的自動測量。
樣品量為1ml，可以使用廉價的電筒進行測量。
OTSUKA大冢- 自動桑普勒濃厚系顆粒直徑FPAR-1000ASOTSUKA大冢- 自動桑普勒濃厚系顆粒直徑FPAR-1000ASOTSUKA大冢- 自動桑普勒濃厚系顆粒直徑FPAR-100
詳情介紹：
FPAR-1000AS
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OTSUKA大冢- 自動桑普勒濃厚系顆粒直徑
樣品量為1ml，可以使用廉價的電筒進行測量。
特長：
通過使用自動取款機，可以自動連續(xù)測量試料50個。
從稀薄的溶液到濃厚溶液，可以測量在廣泛的濃度范圍內(nèi)的高速、高精度的粒子徑、粒子直徑分布（粒徑、粒徑分布）。
在研究·質(zhì)量管理的廣泛用途上使用微粒子特有的分散、凝集過程的功能等。
根據(jù)新開發(fā)的測量程序，對應于濃厚溶液中高精度的粒子直徑測量。
將樣本溫調(diào)、超聲波洗凈等所有必要的功能全部內(nèi)置的A3尺寸的緊湊設計。
測定項目
| 粒子徑 |
| 3 nm ～ 5000nm |
| 1 nm ～ 5000nm （高感度仕様） |
|
キュムラント平均粒子徑 ヒストグラム平均粒子徑（D50）（高感度仕様） |
| 分布解析 |
|
CONTIN法 MARQUARDT法 NNLS法 CUMULANT法 |
|
対応濃度範囲 （標準ラテックス 204nm の場合） |
| 0.001 ～ 10 % |
|
濃厚系プローブ（標準） 0.01 ～ 10 % |
|
希薄系プローブ（オプション） 0.001 ～ 0.01 % |
應用領(lǐng)域
色材工業(yè)中的顏料?墨水的分散?凝集控制·粒子徑管理。
陶瓷拉拉力的分散?凝集控制、分散劑效果
半導體領(lǐng)域的研磨粒子的粒子直徑管理
高分子·化學工業(yè)中的艾瑪約翰、拉特克斯的分散凝集控制、粒子直徑管理
醫(yī)藥品?食品乙醇的分散?凝集控制、利波索等粒子直徑管理
光催化（氧化鈦）粒子的分散狀態(tài)管理
FPAR-1000仕様
| 光源 | 半導體レーザー | |||
| 検出器 | 光電子増倍管（フォトンカウンティング方式） | |||
| サンプル溫調(diào)範囲 | 10 ～ 70℃ | |||
| 溫調(diào)方式 | 電子式冷卻素子、ヒーター | |||
| プローブ洗浄方式 | 超音波洗浄 | |||
| 電源 | AC100V ± 10%50/60Hz 300VA | |||
| 寸法（WDH） | 320（W)×507（D)×284（H) | |||
| 重量 | 約 22 kg | |||
オートサンプラー仕様
| サンプルバイアル |
円筒形セル（蓋つき） サンプル容量 1 ～ 2.5 ml |
|||
| サンプルバイアル數(shù) | 一度に 50本 まで搭載可能 | |||
| 溫調(diào) | ヒータ?ペルチェ方式 | |||
| サンプル溫調(diào)範囲 | 15～40℃ | |||
| 測定濃度範囲 | 0.001% ～ 10% （FPAR-1000と接続時） | |||
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