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產(chǎn)品詳情
簡(jiǎn)單介紹：
小直徑晶片多片處理用等離子體CVD裝置
詳情介紹：
概述
PD-3800L 是一種大規(guī)模生產(chǎn)的等離子 CVD 設(shè)備，可在 ±360mm 的大面積托盤(pán)中同時(shí)安裝多個(gè)小直徑晶圓。 配備負(fù)載鎖室，工藝穩(wěn)定性好。 各種硅基薄膜（SiO+、SiN、非晶硅等）可以形成，作為化合物半導(dǎo)體和硅工藝中的層間絕緣膜和鈍化膜。
特點(diǎn)
可在小直徑晶圓的多片同時(shí)成膜
×360mm的大面積托盤(pán)中同時(shí)成膜多張小直徑晶圓。 （φ2“×26張、φ3”×12張、φ4“×7張、φ6”×3張）
優(yōu)異的托盤(pán)面內(nèi)均勻性
獨(dú)特的反應(yīng)室結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)了優(yōu)異的面內(nèi)均勻性和批次間穩(wěn)定性。
負(fù)載鎖定室可實(shí)現(xiàn)
穩(wěn)定的工藝。
應(yīng)用示例
可以形成
氮化硅膜、氧化硅膜和非晶硅膜，形成各種硅基薄膜。
選項(xiàng)
晶圓移載機(jī)允許在盒式?托盤(pán)之間自動(dòng)輸送，從而節(jié)省勞動(dòng)力并提高產(chǎn)量。
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