日本mikasa勻膠機(jī)MS-B150中國(guó)代理現(xiàn)貨！

日本Mikasa為半導(dǎo)體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布、曝光、顯影、蝕刻等半導(dǎo)體制造前段工序所需要的裝置后，提供一站式服務(wù)。另外，為旋轉(zhuǎn)涂膜儀的所有機(jī)型準(zhǔn)備了替代用機(jī)，可在發(fā)生故障時(shí)盡早應(yīng)對(duì)，且在銷(xiāo)售后提供快捷周到的售后服務(wù)。針對(duì)研究過(guò)程中所發(fā)生的一系列問(wèn)題，也可在現(xiàn)場(chǎng)提出解決建議。與客戶(hù)共同探討在哪個(gè)工序出現(xiàn)了問(wèn)題、應(yīng)如何改進(jìn)等等，從而得出解決建議。Mikasa 作為一個(gè)可在半導(dǎo)體方面進(jìn)行共同商談的咨詢(xún)顧問(wèn)不僅銷(xiāo)售設(shè)備，而是為客戶(hù)半導(dǎo)體制造的整體工藝流程。將光刻膠（感光材料）涂抹到晶圓表面，形成厚度均一的薄膜。

日本MIKASA旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)MS-A150/MS-B150產(chǎn)品規(guī)格：

日本Mikasa為半導(dǎo)體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布、曝光、顯影、蝕刻等半導(dǎo)體制造前段工序所需要的裝置后，晶圓涂抹提供一站式服務(wù)。

日本Mikasa 半導(dǎo)體用設(shè)備 旋涂機(jī)。勻膠機(jī)

MS-B100

MS-B150

MS-B200

MS-B300

MS-B200

日本Mikasa半導(dǎo)體用設(shè)備 密閉型MS-B300

日本Mikasa半導(dǎo)體用設(shè)備 密閉型MA-20

MA-10B

MA-60F

M-2LF

M-1S

日本Mikasa半導(dǎo)體用設(shè)備

AD-1200

AD-3000

ED-1200

為半導(dǎo)體制造工序提供支持的Mikasa
備齊光刻膠涂布、曝光、顯影、蝕刻等半導(dǎo)體制造前段工序所需要的裝置后，提供一站式服務(wù)。另外，為旋轉(zhuǎn)涂膜儀的所有機(jī)型準(zhǔn)備了替代用機(jī)，可在發(fā)生故障時(shí)盡早應(yīng)對(duì)，且在銷(xiāo)售后提供快捷周到的售后服務(wù)。針對(duì)研究過(guò)程中所發(fā)生的一系列問(wèn)題，也可在現(xiàn)場(chǎng)提出解決建議。與客戶(hù)共同探討在哪個(gè)工序出現(xiàn)了問(wèn)題、應(yīng)如何改進(jìn)等等，從而得出解決建議。Mikasa 作為一個(gè)可在半導(dǎo)體方面進(jìn)行共同商談的咨詢(xún)顧問(wèn)，不僅銷(xiāo)售設(shè)備，而是為客戶(hù)半導(dǎo)體制造的整體工藝流程

晶圓→洗滌（**晶圓表面的臟污及各種金屬離子）→成膜（在高溫?cái)U(kuò)散爐中，形成表面氧化膜）→光刻膠涂布（將光刻膠（感光材料）涂抹到晶圓表面，形成厚度均一的薄膜）→曝光（將光掩膜與晶圓重合，復(fù)制電路圖案）→顯影（去除曝光部位（正膠）的光刻膠）→蝕刻（通過(guò)腐蝕氧化膜來(lái)蝕刻電路）

日本Mikasa為半導(dǎo)體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布、勻膠機(jī)， 旋涂機(jī)，曝光、顯影、蝕刻。旋涂?jī)x、旋涂機(jī)、甩膠機(jī)、勻膠臺(tái)、旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂層機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)、旋轉(zhuǎn)薄膜機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂覆儀、旋轉(zhuǎn)涂膜儀、勻膜機(jī)