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紫外可見(jiàn)光光度計(jì)
產(chǎn)品詳情
簡(jiǎn)單介紹：
除了可以進(jìn)行高精度薄膜分析的橢圓偏振光譜儀之外，我們還通過(guò)實(shí)現(xiàn)自動(dòng)可變測(cè)量機(jī)制來(lái)支持所有類(lèi)型的薄膜。除了常規(guī)的旋轉(zhuǎn)光子檢測(cè)器方法之外，通過(guò)為延遲板提供自動(dòng)連接/分離機(jī)制，還提高了測(cè)量精度。
詳情介紹：
特殊長(zhǎng)度
- 可以在紫外可見(jiàn)光（300-800 nm）波長(zhǎng)范圍內(nèi)測(cè)量橢偏參數(shù)。
- 可以進(jìn)行納米級(jí)的多層薄膜厚度分析
- 通過(guò)多通道光譜儀可快速測(cè)量橢圓偏振光，可測(cè)量400通道或更多通道
- 通過(guò)可變反射角測(cè)量支持對(duì)薄膜的詳細(xì)分析
- 通過(guò)創(chuàng)建光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)庫(kù)并添加配方注冊(cè)功能來(lái)提高可操作性。
測(cè)量項(xiàng)目
- 橢偏參數(shù)（tanψ，cosΔ）測(cè)量
- 光學(xué)常數(shù)（n：折射率，k：消光系數(shù)）分析
- 膜厚分析
測(cè)量目標(biāo)
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半導(dǎo)體晶片
柵極氧化物薄膜，氮化物膜
SiO 2，Si x O y，SiN，SiON，SiN x，Al 2 O 3，SiN x O y，多晶硅，ZnSe，BPSG，TiN的
光學(xué)常數(shù)（波長(zhǎng)色散）抵抗 -
化合物半導(dǎo)體
Al x Ga （1-x）作為多層膜，非晶硅 -
FPD
取向膜 -
各種新材料
DLC（類(lèi)金剛石），超導(dǎo)薄膜，磁頭薄膜 -
光學(xué)薄膜
TiO 2，SiO 2，減反射膜 -
在每個(gè)波長(zhǎng)下的光刻場(chǎng)n，k評(píng)估，例如g線（436 nm），h線（405 nm），i線（365 nm）
- 產(chǎn)品信息
- 原則
- 規(guī)格
- 測(cè)量例
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